Su-8 photoresist as a cost reducing factor in liga-x technology.

• Processo: 01/10527-9
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Reunião - Brasil
• Data de Início da vigência: 26 de novembro de 2001
• Data de Término da vigência: 30 de novembro de 2001
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia Química - Tecnologia Química
• Pesquisador responsável: Izaque Alves Maia
• Beneficiário: Izaque Alves Maia
• Instituição Sede: Associação Brasileira de Tecnologia de Luz Síncrotron (ABTLuS). Ministério da Ciência, Tecnologia e Inovação (Brasil). Campinas , SP, Brasil
• Assunto(s): Miniaturização Microfabricação Sistemas microeletromecânicos
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Litografia De Raios-X | Mems | Microfabricacao | Microsistemas | Miniaturizacao | Tecnologia Liga