Noise reduction in the recording of holographic masks in photoresist.

• Processo: 99/06004-9
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Reunião - Exterior
• Data de Início da vigência: 20 de setembro de 1999
• Data de Término da vigência: 22 de setembro de 1999
• Área do conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Áreas Clássicas de Fenomenologia e suas Aplicações
• Pesquisador responsável: Lucila Helena Deliesposte Cescato
• Beneficiário: Lucila Helena Deliesposte Cescato
• Instituição Sede: Instituto de Física Gleb Wataghin (IFGW). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
• Assunto(s): Máscaras Litografia
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Fotorresinas | Litografia | Mascaras | Redes De Difracao