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Field effect transistor with 170nm gate fabricated by atomic force lithography.

Processo:99/06576-2
Modalidade de apoio:Auxílio à Pesquisa - Reunião - Brasil
Data de Início da vigência: 09 de agosto de 1999
Data de Término da vigência: 12 de agosto de 1999
Área do conhecimento:Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
Pesquisador responsável:Roberto Ricardo Panepucci
Beneficiário:Roberto Ricardo Panepucci
Instituição Sede: Pessoa Física
Assunto(s):Arsenieto de gálio  Transistores de efeito de campo  Semicondutores 
Palavra(s)-Chave do Pesquisador:Crescimento Epitaxial Cbe | Dispositivos Semicondutores | Gaas | Nanofabricacao | Transistor De Efeito De Campo
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