Materiais absorvedores de radiacao eletromagnetica (8-12 ghz) obtidos pela producao de filmes finos.

• Processo: 05/01258-5
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Doutorado
• Data de Início da vigência: 01 de março de 2006
• Data de Término da vigência: 28 de fevereiro de 2009
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia Aeroespacial
• Pesquisador responsável: Mirabel Cerqueira Rezende
• Beneficiário: Viviane Lilian Soethe
• Instituição Sede: Instituto de Aeronáutica e Espaço (IAE). Departamento de Ciência e Tecnologia Aeroespacial (DCTA). Ministério da Defesa (Brasil). São José dos Campos , SP, Brasil
• Assunto(s): Filmes finos Plasma frio Nanotecnologia
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Eletromagnetica | Filmes Finos | Nanotecnologia | Plasma Frio | Materiais absorvedores de radiação eletromagnética

Resumo

Os Materiais Absorvedores de Radiação Eletromagnética (MARE) têm recebido muita atenção nas últimas 3 décadas, devido às crescentes exigências das legislações governamentais no controle de níveis de radiação eletromagnética espúria emitida por equipamentos eletrônicos, das normas industriais de compatibilidade e interferência eletromagnética (EMI/EMC), envolvendo basicamente as indústrias de equipamentos eletro-eletrônicos e telecomunicações, bem como a demanda da sociedade na confiabilidade nos equipamentos eletrônicos. Os MARE são muito utilizados no controle da radiação indesejada e, normalmente, o desempenho mínimo exigido é uma absorção de 50% da radiação incidente na faixa de freqüências de interesse.Os MARE tradicionais são baseados, principalmente, em centros absorvedores de perdas magnéticas (ferritas) e dielétricos (negro de fumo), ou a combinação de ambos, incorporados em uma matriz. Entretanto, a utilização destes centros absorvedores apresenta como principais desvantagens o peso e o volume ocupado pelo material absorvedor final. Dependendo do nível de absorção exigido (geralmente entre 50% e 99%), um absorvedor aditado com ferritas apresenta uma espessura em torno de 0,1 – 0,5 cm, e gramatura da ordem de ~3,0 kg/m2 – 18 kg/m2, e um absorvedor com aditivos de perdas dielétricas tem espessuras entre 0,5 – 10 cm, e gramatura da ordem de 1,0 kg/m2 – 5,0 kg/m2.O presente trabalho pretende estudar a produção e a caracterização de filmes finos nas escalas de espessura micro e nanométrica, comprometidos com a absorção de radiação eletromagnética na faixa de freqüências entre 8 a 12 GHz. Os filmes finos absorvedores serão obtidos pelo processo de deposição física de vapor, constituídos de metais e metais de transição (Fe, Al, Ni e Ti), com espessuras inferiores a camada pelicular e perdas do tipo dielétrica, depositados em substratos de filmes poliméricos. A gramatura do substrato e do filme absorvedor final será de ~0,040-0,100 kg/m2 e espessura ~30-100 micrometros (susbtrato+filme), com um comprometimento do nível de absorção da onda eletromagnética de no mínimo 50%. A espessura do filme depositado será inferior a 100 átomos.Palavras-chave: Materiais absorvedores de radiação eletromagnética, nanotecnologia, filmes finos, plasma frio.