Avaliação da integridade do substrato poli(metacrilato de metila) - PMMA na produção de grafeno pelo método CVD

• Processo: 15/11482-1
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
• Data de Início da vigência: 01 de julho de 2015
• Data de Término da vigência: 16 de outubro de 2016
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Telecomunicações
• Pesquisador responsável: Eunezio Antonio de Souza
• Beneficiário: Emerson Candido de Oliveira
• Instituição Sede: Instituto Mackenzie de Pesquisas em Grafeno e Nanotecnologias (Mackgraphe). Universidade Presbiteriana Mackenzie (UPM). Instituto Presbiteriano Mackenzie. São Paulo , SP, Brasil
• Vinculado ao auxílio: 12/50259-8 - Grafeno: fotônica e opto-eletrônica: colaboração UPM-NUS, AP.SPEC
• Assunto(s): Grafenos Fotônica Polímeros (materiais)
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Cvd | Grafeno | polímero | fotônica

Resumo

Um procedimento de escolha do substrato polimérico deve ser realizado de acordo com a aplicação do grafeno, ou seja, devem-se respeitar as temperaturas de aplicação, necessidade de transparência e propriedades mecânicas exigidas. Um estudo prévio de qual polímero deve ser utilizado deve ser realizado, principalmente, no que se diz respeito a temperaturas de transição vítrea (Tg), temperatura de fusão, grau de cristalinidade, massa molar, solubilidade a diferentes solventes e resistência mecânica (curvas tensão versus deformação na temperatura de uso do material). Não menos importante, um estudo sistemático deve ser realizado para avaliar a possível degradação sofrida pelo substrato polimérico durante o processo de retirado do Cu. Essa avaliação deve ser focada na mudança de massa molar após processo de obtenção do grafeno. Ensaios de Cromatografia de Exclusão por Tamanho (Size Exclusion Chromatography - SEC) serão realizados antes e após processo de obtenção dos filmes de grafeno. Esse projeto irá avaliar o poli(metacrilato de metila) - PMMA como um substrato polimérico para produção de filmes de grafeno pelo método de "Chemical Vapor Deposition - CVD", avaliando suas propriedades de transparência, propriedades térmicas e mecânicas, como também ser estável as condições de processo por CVD. (AU)