Desenvolvimento de filmes finos depositados a plasma para fotoproteção de materiais poliméricos

• Processo: 17/11483-3
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Programa Capacitação - Treinamento Técnico
• Data de Início da vigência: 01 de julho de 2017
• Data de Término da vigência: 28 de fevereiro de 2019
• Área de conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Química
• Pesquisador responsável: Walter Ruggeri Waldman
• Beneficiário: Felipe Oliveira Fernandes
• Instituição Sede: Centro de Ciências e Tecnologias para a Sustentabilidade (CCTS). Universidade Federal de São Carlos (UFSCAR). Sorocaba , SP, Brasil
• Vinculado ao auxílio: 16/24936-3 - Desenvolvimento de filmes finos depositados a plasma para fotoproteção de materiais poliméricos, AP.R
• Assunto(s): Fotodegradação Deposiçăo por plasma Deposição de filmes finos Polímeros (materiais) Polipropilenos
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Deposiçãopor plasma | dióxido de titânio | fotodegradação | polipropileno | Materiais poliméricos

Resumo

Fotodegradação de polímeros limita as opções para sua utilização em exposição a intempéries e diminui a sua vida útil. Deposição de filmes finos de organosilicone por plasma sobre polímeros aumenta a sua resistência à fotodegradação, sem interferir em aspectos como coloração e brilho devido à sua transparência e dimensão nanométrica. A partir de resultados prévios obtidos em projeto de doutorado, com até 80% menos formação de carbonilas durante envelhecimento acelerado de polipropileno, espera-se principalmente dois resultados: A) desenvolver as condições ótimas para a deposição de filmes finos de organosilicone por plasma, facilitando a transposição para desenvolvimento de produtos, com filmes mais contínuos e flexíveis, com resistência à fotodegradação em polipropileno, e; B) estudar a fotodegradação dos filmes finos de organosilicone, assunto inédito na literatura. (AU)