Análise do desempenho biológico de novos materiais para aplicações biomédicas: candidatos e biomateriais desenvolvidos no IP&D - UNIVAP

• Processo: 03/08190-1
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Pós-Doutorado
• Data de Início da vigência: 01 de novembro de 2003
• Data de Término da vigência: 31 de outubro de 2004
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia Biomédica
• Pesquisador responsável: Cristina Pacheco Soares
• Beneficiário: André Luís Paschoal
• Instituição Sede: Instituto de Pesquisa e Desenvolvimento (IP&D). Universidade do Vale do Paraíba (UNIVAP). São José dos Campos , SP, Brasil
• Assunto(s): Biomateriais Biovidro Hidroxiapatita
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Biocompatibilidade | Biomateriais | Biovidro | Desempenho Biologico | Hidroxiapatita | Titanio-Niobio

Resumo

Nas últimas décadas, estudos têm sido desenvolvidos nas áreas da medicina e da engenharia, na tentativa de se obter dispositivos para a obtenção de uma cura rápida, segura quando da ocorrência de traumas ou enfermidades que necessitam de algum tipo de biomaterial para serem reparadas. O aumento dessas pesquisas é devido ao crescente avanço tecnológico, que leva novos materiais, a serem testados e direcionados à confecção de dispositivos para implantes, como conseqüência da necessidade de aperfeiçoamento desses dispositivos. Dessa forma, o presente trabalho destina-se a realizar estudos de biocompatibilidade de alguns novos materiais candidatos a biomateriais desenvolvidos pelo Grupo de Biomateriais do IP&D da UNIVAP, seguindo as normas internacionais ISO 10993 e ASTM (sessão 13), como parte integrante de todo um processo de validação destes materiais para uso biomédico. Os testes mais expressivos são os testes in vitro de citotoxicidade, que verifica o impacto do contato do material a nível celular em culturas celulares, e os testes in vivo de toxicidade sistêmica, sensibilidade, irritação e de interação com o sangue. Os materiais a serem testados, serão ligas Ti-Nb, cerâmicas a base de carbono (diamante), fosfato de cálcio (depositado por rf-sputtering) e o biovidro nitreto de silício (Si3N4). (AU)