Preparação e caracterização de nanotubos de carbono por deposição de vapor assistido por plasma

• Processo: 07/02976-4
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
• Data de Início da vigência: 01 de outubro de 2007
• Data de Término da vigência: 30 de setembro de 2008
• Área de conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
• Pesquisador responsável: Fernando Alvarez
• Beneficiário: Imara Lima Fernandes
• Instituição Sede: Instituto de Física Gleb Wataghin (IFGW). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
• Assunto(s): Nanoestruturas de carbono Filmes finos Deposição de filmes finos Deposição química por vapor CVD
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Ligas de carbono nitrogenio | Nanoestruras de carbono | Nitretos de Titanio | Filmes Finos

Resumo

A proposta deste projeto é otimizar as técnicas de preparação de substratos utilizados na síntese de nanotubos de carbono, atualmente utilizadas no laboratório de deposição de filmes por feixe iônico, DFA, IFGW. As amostras serão caracterizadas composicional e estruturalmente para relacionar as propriedades físicas das amostras com as condições de preparo. O projeto está dividido em duas partes. Na primeira, serão otimizadas as condições de preparação dos substratos de filmes finos de Nitreto de Titânio pelo método de deposição por feixe iônico IBD, (Íon Beam Deposition). Na segunda parte do projeto serão preparadas amostras de nanotubos de carbono sintetizadas pelo método deposição química em fase de vapor CVD (Chemical Vapor Deposition) assistido por plasma.