Filmes mesoporosos ordenados a base de silicato de sódio

• Processo: 08/09710-2
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
• Data de Início da vigência: 01 de novembro de 2008
• Data de Término da vigência: 31 de outubro de 2009
• Área de conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
• Pesquisador responsável: Marcia Carvalho de Abreu Fantini
• Beneficiário: Karen Thyaki Yoshii Fujiwara
• Instituição Sede: Instituto de Física (IF). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
• Vinculado ao auxílio: 07/53073-4 - Cerâmicas mesoporosas e hibridos orgânico-inorgânicos multifuncionais preparados pelo processo sol-gel, AP.TEM
• Assunto(s): Materiais Raios X Sílica
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Filme fino | mesoporoso ordenado | Raios X | sílica | Ciência dos Materiais

Resumo

A obtenção de materiais porosos ordenados a base de sílica usualmente utilizam TEOS (tetraetil ortossilicato) como fonte de sílicio, cujo custo de 1L é cerca de 200 reais, duas vezes superior ao silicato de sódio.Para aplicações onde uma grande quantidade do material é requerida esse fato constitui o entrave mais relevante. O desenvolvimento de materiais a custo mais baixo para uso em larga escala é mandatório, justificando a busca de novos precursores e a optimização dos processos de síntese. A utilização de silicato de sódio como fonte de silício foi pela primeira relatada em 1995 para síntese do material conhecido como MCM-41. A partir de então vários trabalhos relatam o uso mais freqüente desse composto para a preparação de estruturas hexagonais usualmente na forma de pó.Esse projeto tem por objetivo desenvolver uma metodologia para crescer filmes de sílica mesoporosa ordenada hexagonal do tipo MCM-41 utilizando silicato de sódio como fonte de silício sobre diferentes substratos como vidro, silício, plástico e metal. Pretende-se investigar a influência do substrato na estruturação dos poros, bem como do método de deposição por dip e spin-coating.