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1) Estudo da técnica de acelerator mass spetrometry - 2) Produção e caracterização de filmes finos formados pelo sistema íon vapor deposition

Processo: 93/02515-2
Modalidade de apoio:Bolsas no Exterior - Pesquisa
Data de Início da vigência: 02 de setembro de 1993
Data de Término da vigência: 15 de dezembro de 1993
Área de conhecimento:Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
Pesquisador responsável:Masao Matsuoka
Beneficiário:Masao Matsuoka
Pesquisador Anfitrião: Toshio Nakamura
Pesquisador Anfitrião: Kiyoshi Ogata
Instituição Sede: Instituto de Física (IF). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
Instituição Anfitriã: Nagoya University, Japão ;   Nagoya University, Japão  
Assunto(s):Espectrometria de massas   Efeitos da radiação   Filmes finos
Palavra(s)-Chave do Pesquisador:Efeito Da Radiacao | Espectrometria De Massa | Filme Fino

Resumo

1. Estudo da ultrasensível espectrometria de massa com acelerador, visando sua aplicação na geocronologia, junto com aprendizagem do método de preparação de amostras e realização de medidas de materiais geológicos brasileiros no "Dating and Materials Research Center", Nagoya University, Japão; 2. Com esse estágio ao principal fabricante do equipamento "Ion Vapor Deposition" no Japão, Nissin Electric Co. Ltda., teremos a oportunidade de participar na produção de alguns filmes nos diferentes sistemas disponíveis e realizar sua caracterização para familiarização com este processo em vias de implantação do equipamento em nosso Institutos. (AU)

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