Deposição de filmes de diamante policristalino sobre ferramentas de corte de nitreto de silício e compósitos via técnicas de deposição química CVD

• Processo: 00/00678-7
• Modalidade de apoio: Bolsas no Exterior - Pesquisa
• Data de Início da vigência: 15 de maio de 2000
• Data de Término da vigência: 14 de maio de 2001
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos
• Pesquisador responsável: Vitor Alexandre da Silva
• Beneficiário: Vitor Alexandre da Silva
• Pesquisador Anfitrião: Rui Ramos Ferreira e Silva
• Instituição Sede: Pessoa Física
• Instituição Anfitriã: Universidade de Aveiro (UA), Portugal
• Assunto(s): Materiais compósitos de matriz cerâmica Nitreto de silício Deposição química por vapor CVD Filmes finos de diamante Diamantes CVD Propriedades mecânicas Ferramentas de corte
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Compositos | Deposicao Quimica De Vapor | Diamante Cvd | Filmes Finos | Propriedades Mecanicas

Resumo

Neste projeto estudar-se-á a aplicação de cerâmicos técnicos densos - nitreto de silício (Si3N4) e compósitos desta matriz - na forma de novos substratos para crescimento de filmes finos de diamante por deposição química em fase gasosa (CVD). A excelente afinidade deste material para o diamante quanto aos respectivos coeficientes de expansão térmica, potência uma elevada adesão dos filmes e constitui a razão principal desta investigação. A aplicabilidade destes cerâmicos revestidos com diamante situa-se na área das ferramentas de corte (pastilhas para torneamento e fresagem, mós diamantadas, brocas odontológicas, etc.) e materiais de elevada resistência ao desgaste (bicos injectores para materiais abrasivos, vedantes, fieiras, etc.), constituindo uma alternativa aos materiais convencionais. (AU)