| Processo: | 99/00351-9 |
| Modalidade de apoio: | Bolsas no Brasil - Mestrado |
| Data de Início da vigência: | 01 de abril de 1999 |
| Data de Término da vigência: | 28 de fevereiro de 2001 |
| Área de conhecimento: | Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos |
| Pesquisador responsável: | Antonio Carlos Seabra |
| Beneficiário: | Ana Paula Mousinho dos Santos |
| Instituição Sede: | Escola Politécnica (EP). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil |
| Assunto(s): | Microeletrônica Sistemas microeletromecânicos Microestruturas Litografia (processos de impressão) Raios X Microssensores |
| Palavra(s)-Chave do Pesquisador: | Corrosao Por Plasma | Litografia | Mems | Microeletronica | Microestruturas | Processos De Fabricacao De Cis |
Resumo Os processos de fabricação de microestruturas em silício voltadas para sistemas microeletromecânicos (MEMS) necessitam de etapas litográficas capazes de definir estruturas com alturas de 100um a 1000um e razões de aspecto (altura vs largura) elevadas, entre 30 e 100. Os processos mais avançados nessa área empregam litografia por raios-X, que embora possua as características técnicas necessárias, é extremamente cara (tanto em equipamentos quanto em insumos) e demorada na sua execução. A proposta deste trabalho é desenvolver um processo que empregue técnicas litográficas de imagem na superfície (camada simples) e corrosão por plasma na obtenção de tais estruturas de forma mais rápida e a custos significativamente inferiores. Tal processo deverá ser aplicado no desenvolvimento de microssensores e microatuadores eletromecânicos. (AU) | |
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