Estudo da pureza de filmes depositados por "vacuum arc deposition system".

• Processo: 00/00611-0
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Mestrado
• Data de Início da vigência: 01 de junho de 2000
• Data de Término da vigência: 31 de maio de 2002
• Área de conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
• Pesquisador responsável: Maria Cecília Barbosa da Silveira Salvadori
• Beneficiário: Deilton Reis Martins
• Instituição Sede: Instituto de Física (IF). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
• Assunto(s): Filmes finos
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Canhao De Plasma | Filmes Finos | Pureza De Filmes

Resumo

O objetivo deste trabalho é o de avaliar quantitativamente a pureza química dos filmes depositados pela técnica "Metal Plasma Immersion lon Implantation and Deposition System" (MePIIID), comparada com a pureza do catodo utilizado. Este equipamento, além de depositar filmes metálicos, inclui a possibilidade de deposição de filmes finos de alguns óxidos, nitretos, ligas metálicas, carbetos e especialmente diamond-like livre de hidrogênio. Esta técnica também permite implantação iônica com baixa energia, visto que é utilizada uma polarização pulsada no porta objeto. A principal caracterização das amostras será feita para medida da pureza destes filme utilizando análise por feixe iônico (), através de retro-espalhamento Rutherford (RBS) e de emissão de raios X induzidos por prótons (PIXE). Estas técnicas permitem detectar impurezas em níveis de até ppm. (AU)

Publicações acadêmicas

(Referências obtidas automaticamente das Instituições de Ensino e Pesquisa do Estado de São Paulo)

MARTINS, Deilton Reis. Estudo da pureza de filmes depositados por \'vacuum ARC plasma deposition system\'.. 2002. Dissertação de Mestrado - Universidade de São Paulo (USP). Escola Politécnica (EP/BC) São Paulo.