Estudo da pureza de filmes depositados por \'vacuum ARC plasma deposition system\'.

Autor(es)

Deilton Reis Martins

• Tipo de documento: Dissertação de Mestrado
• Imprenta: São Paulo. , gráficos, ilustrações, tabelas.
• Instituição: Universidade de São Paulo (USP). Escola Politécnica (EP/BC)
• Data de defesa: 2002-06-10

Membros da banca

Maria Cecilia Barbosa da Silveira Salvadori; Mauro Sergio Dorsa Cattani; Ronaldo Domingues Mansano

• Orientador: Maria Cecilia Barbosa da Silveira Salvadori
• Área do conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física
• Indexada em: Banco de Dados Bibliográficos da USP-DEDALUS
• Localização: Universidade de São Paulo. Biblioteca Central da Escola Politécnica; EPBC/FD-3122

Resumo

Neste trabalho obtemos filmes finos a partir de plasma gerado por corrente elétrica. Este processo, conhecido por arco catódico filtrado, é usado em um grande número de aplicações tecnológicas, seja para recobrimento ou modificação de superfícies. Apresentamos, além da descrição de características básicas do método, detalhes da construção do equipamento tal como o circuito elétrico para geração do arco catódico. Após a construção do equipamento, foi dado inicio a um estudo de contaminação do filme em função de outros elementos anteriormente utilizados na câmara de deposição, isto é, um estudo da contaminação por efeito de memória. Ainda como parte do estudo do efeito de memória, é abordada a questão da persistência desse efeito ao longo do tempo de deposição. Resultados de contaminação de oxigênio em um filme de alumínio são apresentados no final do trabalho. (AU)

• Processo FAPESP: 00/00611-0 - Estudo da pureza de filmes depositados por "vacuum arc deposition system".
• Beneficiário: Deilton Reis Martins
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Mestrado