Deposição de filmes de nitreto de boro (BN) e fonte de plasma para deposição de filmes em áreas extensas

• Processo: 96/11951-9
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Doutorado
• Data de Início da vigência: 01 de maio de 1997
• Data de Término da vigência: 31 de agosto de 1999
• Área de conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física dos Fluídos, Física de Plasmas e Descargas Elétricas
• Pesquisador responsável: Ricardo Magnus Osório Galvão
• Beneficiário: José Antônio Sevidanes da Matta
• Instituição Sede: Instituto de Física (IF). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
• Assunto(s): Tratamento de superfícies Plasma (estados da matéria) Nitreto de boro
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Descargas Micro-Ondas | Nitreto De Boro | Plasma | Tratamento De Superficie

Resumo

Trabalho experimental: I) montagem e teste do sistema de deposição-reator ECR; II) medida dos parâmetros de plasma; III) crescimento dos filmes de BN em substratos diversos; IV) caracterização dos filmes depositados; V) implementação no sistema ECR-RF par (AU)

Publicações acadêmicas

(Referências obtidas automaticamente das Instituições de Ensino e Pesquisa do Estado de São Paulo)

MATTA, José Antônio Sevidanes da. Desenvolvimento e caracterização de uma fonte de plasma ECR para deposição de filmes finos. 2001. Tese de Doutorado - Universidade de São Paulo (USP). Instituto de Física (IF/SBI) São Paulo.