COMPOSIÇÃO PARA FILMES FINOS CERÂMICOS, PROCESSO DE OBTENÇÃO DE RESINA PARA FILMES FINOS CERÂMICOS SOBRE SUBSTRATO DE VIDRO/FTO E FILMES FINOS CERÂMICOS SOBRE SUBSTRATO DE VIDRO/FTO OBTIDOS

COMPOSIÇÃO PARA FILMES FINOS CERÂMICOS, PROCESSO DE OBTENÇÃO DE RESINA PARA FILMES FINOS CERÂMICOS SOBRE SUBSTRATO DE VIDRO/FTOE FILMES FINOS CERÂMICOS SOBRE SUBSTRATO DE VIDRO/FTOOBTIDOS. É descrita uma composição para filmes finos cerâmicos que compreende uma resina precursora à base de sais de metais de transição e sais alcalino terrosos ou sais complexos de lantânio ou derivados e sal de metal de transição, a dita resina sendo adicionado o copolímero tribloco OPE20OPP70OPE20 e onde a proporção do dito copolímero tribloco para cada mililitro da resina precursora é de pelo menos 5 mg, à temperatura ambiente. O processo de obtenção da resina para filmes finos compreende aquecer e agitar a composição de resina precursora e polímero tribloco, ajustar as viscosidades ao entorno de 10 cP, deixar a solução descansar por algumas horas para desprendimento das bolhas formadas na fase líquida, e recuperar e armazenar o produto resina. A resina obtida é usada para a obtenção de filmes óxidos por deposição sobre substrato de vidro/FTO seguida de calcinação. Os filmes óxidos são usados em processos eletroquímicos, fotovoltaicos e em sensores.