PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE MATERIAL DIAMANTÍFERO PARA OBTENÇÃO DE ANODO DE DIAMANTE DOPADO E ANODO DE DIAMANTE DOPADO OBTIDO PELO PROCESSO

A presente invenção trata de anodo de diamante dopado coaxial obtido por processo de deposição química a partir da fase de vapor, onde os filmes diamantíferos são depositados sobre substratos cilíndricos mecanicamente resistentes, previamente jateados, sendo que tal processo permite obter filmes uniformes, homogêneos e aderentes. Além do anodo não sofrer modificações estruturais físicas ou químicas significativas em sua superfície durante longos períodos de operação.