Maria Cecília Barbosa da Silveira Salvadori

Possui Bacharelado em Física pelo Instituto de Física da USP (1980), Mestrado em Física Nuclear (1984), Doutorado em Ciências pelo Instituto de Física da USP (1988) e Pós-Dotorado em Lawrence Berkeley Laboratory (1990). Atualmente é Professora Associada, nivel 3, do Instituto de Física da USP. É coordenadora do Laboratório de Filmes Finos, cuja infra-estrutura é constituída por dois sistemas de deposição de filmes finos, quatro equipamentos para caracterização, infra-estrutura para realização de micro e nanofabricação e cultura celular. Um dos sistemas de deposição de filmes é um reator CVD (Chemical Vapor Deposition) para síntese de filmes de diamante e nanotubos; o outro sistema, denominado Metal Plasma Immersion Ion Implantation and Deposition, possibilita a deposição de metais, ligas metálicas, óxidos, nitretos, carbetos e diamondlike carbon. Os equipamentos para caracterização são: um Scanning Probe Microscope com acessórios para microscopia de força atômica (AFM), microscopia de tunelamento (STM), microscopia de força magnética (MFM), microscopia de força elétrica (MFE), célula para amostras imersas fluidos, célula eletroquímica, cabeçote para atmosfera controlada e software para nanolitografia; um Microscópio Eletrônico de Varredura com microanálise e acessório para nanolitografia; um microscópio ótico da Olympus de reflexão e transmissão, modelo BX51 TRF, com aumento até 5.000 vezes, câmera CCD e software para aquisição de imagem; e um sistema para medida de ângulo de contato, energia superficial de sólidos e tensão superficial de líquidos. A principal linha de pesquisa consiste no estudo de micro e nanoestruturas em filmes finos e modificação de superfícies. (Fonte: Currículo Lattes)