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Desenvolvimento de filmes finos depositados a plasma para fotoproteção de materiais poliméricos

Processo: 16/24936-3
Modalidade de apoio:Auxílio à Pesquisa - Regular
Data de Início da vigência: 01 de março de 2017
Data de Término da vigência: 28 de fevereiro de 2019
Área do conhecimento:Ciências Exatas e da Terra - Química
Pesquisador responsável:Walter Ruggeri Waldman
Beneficiário:Walter Ruggeri Waldman
Instituição Sede: Centro de Ciências e Tecnologias para a Sustentabilidade (CCTS). Universidade Federal de São Carlos (UFSCAR). Sorocaba , SP, Brasil
Pesquisadores associados:Elidiane Cipriano Rangel da Cruz ; Nilson Cristino da Cruz
Bolsa(s) vinculada(s):17/11483-3 - Desenvolvimento de filmes finos depositados a plasma para fotoproteção de materiais poliméricos, BP.TT
Assunto(s):Fotodegradação  Polipropilenos  Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD)  Deposiçăo por plasma  Dióxido de titânio  Polímeros (materiais) 
Palavra(s)-Chave do Pesquisador:Deposição por plasma | dióxido de titânio | fotodegradação | polietileno tereftalato | polipropileno | Materiais poliméricos

Resumo

Fotodegradação de polímeros limita as opções para sua utilização em exposição a intempéries e diminui a sua vida útil. Deposição de filmes finos de organosilicone por plasma sobre polímeros aumenta a sua resistência à fotodegradação, sem interferir em aspectos como coloração e brilho devido à sua transparência e dimensão nanométrica. A partir de resultados prévios obtidos em projeto de doutorado, com até 80% menos formação de carbonilas durante envelhecimento acelerado de polipropileno, espera-se principalmente dois resultados: A) desenvolver as condições ótimas para a deposição de filmes finos de organosilicone por plasma, facilitando a transposição para desenvolvimento de produtos, com filmes mais contínuos e flexíveis, com resistência à fotodegradação em polipropileno, e; B) estudar a fotodegradação dos filmes finos de organosilicone, assunto inédito na literatura. (AU)

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Publicações científicas (9)
(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)
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