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Propriedades térmicas de filmes de carbono amorfo hidrogenado

Processo: 98/00116-7
Modalidade de apoio:Bolsas no Brasil - Pós-Doutorado
Data de Início da vigência: 01 de abril de 1998
Data de Término da vigência: 31 de março de 1999
Área de conhecimento:Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
Pesquisador responsável:Douglas de Freitas Takeuti
Beneficiário:Douglas de Freitas Takeuti
Instituição Sede: Instituto de Física Gleb Wataghin (IFGW). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
Assunto(s):Carbono amorfo   Filmes finos de carbono tipo diamante (DLC)   Propriedades térmicas   Difusividade térmica   Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD)
Palavra(s)-Chave do Pesquisador:Carbono Amorfo | Difusividade Termica | Dlc | Fototermica | Pecvd

Resumo

Propõe-se um estudo das propriedades térmicas de filmes de carbono amorfo hidrogenado em função de parâmetros de deposição. Estes filmes têm despertado interesse recentemente por suas diversas aplicações em metalurgia, microeletrônica e óptica. Os filmes a serem investigados seriam depositados por decomposição de metano assistida por plasma e recozidos a temperaturas entre 250 e 700ºC. A caracterização seria feita por técnicas fototérmicas, elétricas, cristalográficas e ópticas, resultando num entendimento detalhado da dependência das propriedades físicas com relação a parâmetros de processo. (AU)

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Publicações científicas
(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)