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(Referência obtida automaticamente do Web of Science, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Enhancing the Electrochemical and Electronic Performance of CVD-Grown Graphene by Minimizing Trace Metal Impurities

Texto completo
Autor(es):
Iost, Rodrigo M. [1, 2] ; Crespilho, Frank N. [2] ; Zuccaro, Laura [1] ; Yu, Hak Ki [3] ; Wodtke, Alec M. [3] ; Kern, Klaus [1, 4] ; Balasubramanian, Kannan [1]
Número total de Autores: 7
Afiliação do(s) autor(es):
[1] Max Planck Inst Solid State Res, D-70569 Stuttgart - Germany
[2] Univ Sao Paulo, Inst Quim Sao Carlos, BR-13560970 Sao Paulo - Brazil
[3] Max Planck Inst Biophys Chem, D-37077 Gottingen - Germany
[4] Ecole Polytech Fed Lausanne, Inst Phys Mat Condensee, CH-1015 Lausanne - Switzerland
Número total de Afiliações: 4
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: CHEMELECTROCHEM; v. 1, n. 12, p. 2070-2074, DEC 11 2014.
Citações Web of Science: 15
Resumo

The presence of unwanted impurities in graphene is known to have a significant impact on its physical and chemical properties. Similar to carbon nanotubes, any trace metals present in graphene will affect the electrocatalytic properties of the material. Here, we show by direct electroanalysis that traces of copper still remain in transferred CVD (chemical vapor deposition)-grown graphene (even after the usual copper etching process) and strongly influence its electrochemical properties. Subsequently, we use a real-time electrochemical etching procedure to remove more than 90% of the trace metal impurities, with a clear improvement in both the electrochemical and electronic-transport properties of monolayer graphene. (AU)

Processo FAPESP: 13/14262-7 - Filmes nanoestruturados de materiais de interesse biológico
Beneficiário:Osvaldo Novais de Oliveira Junior
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Temático
Processo FAPESP: 13/04663-4 - Bioeletrodos enzimáticos aplicados em biocélulas a combustível: simulação e experimental
Beneficiário:Frank Nelson Crespilho
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Regular