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(Referência obtida automaticamente do Web of Science, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Impact of Schottky contacts on p-type back enhanced SOI MOSFETs

Texto completo
Autor(es):
Yojo, Leonardo S. [1] ; Rangel, Ricardo C. [1, 2] ; Sasaki, Katia R. A. [1] ; Ortiz-Conde, Adelmo [3] ; Martino, Joao A. [1]
Número total de Autores: 5
Afiliação do(s) autor(es):
[1] Univ Sao Paulo, LSI PSI USP, Sao Paulo - Brazil
[2] Fac Tecnol Sao Paulo, FATEC SP, Sao Paulo - Brazil
[3] Univ Simon Bolivar, Solid State Elect Lab, Caracas 1080 - Venezuela
Número total de Afiliações: 3
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: Solid-State Electronics; v. 169, JUL 2020.
Citações Web of Science: 0
Resumo

A simple model is proposed for the Back Enhanced SOI MOSFET in triode region. This model is based on a conventional MOSFET model in series with resistors and antiparallel Schottky diodes. A robust parameter extraction method, based on lateral optimization, is also presented. The dependence of the extracted parameters with the back-gate bias is studied. (AU)

Processo FAPESP: 18/01568-4 - Otimização de transistores BE SOI MOSFET como plataforma para aplicação em biossensores
Beneficiário:Leonardo Shimizu Yojo
Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Doutorado