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(Referência obtida automaticamente do Web of Science, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Sub-1 V, Electrolyte-Gated Vertical Field Effect Transistor Based on ZnO/AgNW Schottky Contac

Texto completo
Autor(es):
Nogueira, Gabriel L. [1] ; Vieira, Douglas H. [1] ; Morais, Rogerio M. [1] ; Serbena, Jose P. M. [2] ; Seidel, Keli F. [3] ; Alves, Neri [1]
Número total de Autores: 6
Afiliação do(s) autor(es):
[1] Sao Paulo State Univ UNESP, Fac Sci & Technol FCT, Dept Phys, BR-19060900 Presidente Prudente - Brazil
[2] Univ Fed Parana UFPR, Dept Phys, BR-82590300 Curitiba, Parana - Brazil
[3] Univ Tecnol Fed Parana UTFPR, Dept Phys, BR-80230901 Curitiba, Parana - Brazil
Número total de Afiliações: 3
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS; v. 42, n. 12, p. 1790-1793, DEC 2021.
Citações Web of Science: 0
Resumo

Few works on solution-processed zinc oxide vertical transistors and electrolyte-gated transistors have shown the merits of both architectures. Here, we present an electrolyte-gated vertical field-effect transistor (EGVFET) based on a spray-deposited zinc oxide/silver nanowire (ZnO/AgNW) Schottky contact. The output curve shows that the device operates at a sub-1 V bias. Also, the electrolyte does not affect the diode cell, and the cyclic voltammetry of the capacitor cell does not indicate a faradic process betweenAgNWand the top-gate electrode. Fromthe transfer curve, we extracted an I-ON/I-OFF ratio of 10(4), an on-current density of 65.3 mA/cm(2) and a normalized transconductance of 113.4 mS/cm(2). Our contribution places the ZnO-EGVFET structure on the front line to develop printed transistors without a high-resolution pattern. (AU)

Processo FAPESP: 20/12282-4 - Desenvolvimento de transistores verticais de efeito de campo com eletrólito no gate para fotodetectores UV
Beneficiário:Douglas Henrique Vieira
Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Doutorado
Processo FAPESP: 18/02037-2 - Desenvolvimento de transistores verticais de efeito de campo impressos
Beneficiário:Gabriel Leonardo Nogueira
Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Doutorado