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(Referência obtida automaticamente do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Boosting the Photocurrent of the WO3/BiVO4 Heterojunction by Photoelectrodeposition of the Oxy-Hydroxide-Phosphates Based on Co, Fe, or Ni

Texto completo
Autor(es):
Dyovani Coelho [1] ; João Pedro R. S. Gaudêncio [2] ; Lucia H. Mascaro [3]
Número total de Autores: 3
Afiliação do(s) autor(es):
[1] Universidade Federal de São Carlos (UFSCar). Laboratório de Materiais Nanoestruturados Fabricados Eletroquimicamente. Departamento de Química - Brasil
[2] Universidade Federal de São Carlos (UFSCar). Laboratório de Materiais Nanoestruturados Fabricados Eletroquimicamente. Departamento de Química - Brasil
[3] Universidade Federal de São Carlos (UFSCar). Laboratório de Materiais Nanoestruturados Fabricados Eletroquimicamente. Departamento de Química - Brasil
Número total de Afiliações: 3
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: Journal of the Brazilian Chemical Society; v. 33, n. 7, p. 743-752, 2022-06-17.
Resumo

Here we investigated the photoelectrodeposition of oxygen-evolving catalysts (OECs) based on oxy-hydroxides-phosphates of Co, Fe, or Ni (CoPi, FePi, and NiPi) on the WO3/BiVO4 heterojunction and their activity in water oxidation. The OECs were deposited by cycles of (i) open-circuit potential (OCP) and (ii) applying a potential positive enough to oxidize the metallic precursor on the WO3/BiVO4. The crystalline and optical properties of the photoanodes were not significantly affected by the OECs deposition. However, there was a remarkable increase in the photocurrent densities (jpc) to water oxidation, where the modification with FePi showed the best result, achieving 2.12 mA cm-2, which corresponds to 2.83 times higher than the heterojunction without the OECs. Furthermore, the OECs deposition changed the morphology of the heterojunction with the deposition of a thin film on its surface. In addition, during the FePi deposition, the BiVO4 layer seems to partially dissolve. Our study shows a facile methodology to boost the activity of photoanodes to the water oxidation by photoelectrodeposition of OECs. (AU)

Processo FAPESP: 21/08614-4 - Eletrodeposição de sulfetos e fosfetos de metais de transição em eletrodos 3D para water splitting
Beneficiário:Dyovani Coelho
Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Pós-Doutorado
Processo FAPESP: 13/07296-2 - CDMF - Centro de Desenvolvimento de Materiais Funcionais
Beneficiário:Elson Longo da Silva
Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Centros de Pesquisa, Inovação e Difusão - CEPIDs
Processo FAPESP: 17/11986-5 - Geração e Armazenamento de Novas Energias: trazendo desenvolvimento tecnológico para o país
Beneficiário:Ana Flávia Nogueira
Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Programa Centros de Pesquisa em Engenharia