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Electrical Resistivity Control for Non-Volatile-Memory Electrodes Induced by Femtosecond Laser Irradiation of LaNiO3 Thin Films Produced by Pulsed Laser Deposition

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Autor(es):
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Cichetto Jr, Leonelio ; Donate-Buendia, Carlos ; Flores-Arias, Maria Teresa ; Aymerich, Maria ; da Costa, Joao Paulo de Campos ; Cordoncillo-Cordoncillo, Eloisa ; do Carmo, Joao Paulo Pereira ; Ando Jr, Oswaldo Hideo ; Beltran Mir, Hector ; Bort, Juan Manuel Andres ; da Silva, Elson Longo ; Chiquito, Adenilson Jose
Número total de Autores: 12
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: INORGANICS; v. 13, n. 9, p. 13-pg., 2025-09-02.
Resumo

In this work, we investigated how the electrical resistivity of LaNiO3 thin films deposited on SrLaAlO4 (100), LaAlO3 (100), and MgO (100) single-crystal substrates by the pulsed laser deposition (PLD) technique can be controlled by femtosecond laser irradiation. Thin films were characterized by X-ray diffraction (XRD), field emission scanning electron microscopy (SEM-EDS), and temperature-dependent electrical resistivity measurements. The XRD data indicated good crystallinity and preferential crystallographic orientation. The electronic transport parameters of irradiated samples showed a remarkable decrease in the electrical resistivity for all studied films, which ranged from 38% to 52% depending on the temperature region considered and the type of substrate used. The results indicate a new and innovative route to decrease the electrical resistivity values in a precise, controlled, and localized manner, which could not be performed directly by well-known growth processes, allowing for direct application in non-volatile-memory electrodes. (AU)

Processo FAPESP: 13/07296-2 - CDMF - Centro de Desenvolvimento de Materiais Funcionais
Beneficiário:Elson Longo da Silva
Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Centros de Pesquisa, Inovação e Difusão - CEPIDs
Processo FAPESP: 14/01371-5 - Obtenção de memórias com LaNiO3 e LaNiO3/BaTiO3 utilizando PLD
Beneficiário:Leonélio Cichetto Junior
Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Pós-Doutorado
Processo FAPESP: 19/18656-6 - Desenvolvimento de sistema de irradiação por feixe de elétrons e sua aplicação na modificação de materiais semicondutores
Beneficiário:João Paulo de Campos da Costa
Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Doutorado
Processo FAPESP: 23/13792-4 - Implementação de técnica espectroscópica ultrarrápida
Beneficiário:Leonélio Cichetto Junior
Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Programa Capacitação - Treinamento Técnico
Processo FAPESP: 17/23663-6 - Irradiação por laser de femtossegundos em filmes finos de LaNiO3 depositados por PLD para estudo das propriedades estruturais e físicas para aplicação em memorias ferroelétricas
Beneficiário:Leonélio Cichetto Junior
Modalidade de apoio: Bolsas no Exterior - Estágio de Pesquisa - Pós-Doutorado
Processo FAPESP: 22/10340-2 - EMU científico: aquisição de um sistema de fluorescência de alta resolução temporal, espacial, espectral e operando em amplo intervalo de temperatura
Beneficiário:Gilmar Eugenio Marques
Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Programa Infraestrutura - Científico