Desenvolvimento de sistema de irradiação por feixe de elétrons e sua aplicação na modificação de materiais semicondutores

• Processo: 19/18656-6
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Doutorado
• Vigência (Início): 01 de novembro de 2020
• Vigência (Término): 07 de março de 2022
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Medidas Elétricas, Magnéticas e Eletrônicas, Instrumentação
• Pesquisador responsável: João Paulo Pereira Do Carmo
• Beneficiário: João Paulo de Campos da Costa
• Instituição Sede: Escola de Engenharia de São Carlos (EESC). Universidade de São Paulo (USP). São Carlos , SP, Brasil
• Vinculado ao auxílio: 13/07296-2 - CDMF - Centro de Desenvolvimento de Materiais Funcionais, AP.CEPID
• Assunto(s): Irradiação Tecnologia de feixe de elétrons Semicondutores Propriedades mecânicas Propriedades químicas
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Automação | feixe de elétrons | instrumentação | irradiação | plasma | semicondutores | Instrumentação

Resumo

Nos últimos anos, os avanços e desenvolvimentos na área de tecnologia sucederam em um aumento significativo na demanda por novos materiais cujas propriedades e funções podem ser manipuladas mediante aplicação controlada de luz ou elétrons. Em particular, as interações por feixe de elétrons através da microscopia eletrônica de transmissão com a matéria têm sido extensivamente utilizadas não apenas como plataformas de caracterização de morfologia, estrutura e transformação química, mas também como uma técnica para o processamento e fabricação de novos materiais. No entanto, ainda é um desafio na área de processamento de materiais, tornar a produção escalável e viável com custo-benefício e fácil procedimento de fabricação. Por este motivo, a elaboração e desenvolvimento de um novo equipamento de irradiação por feixe de elétrons passa a agregar um diferencial para a produção e modificação de materiais. Nesta nova plataforma de irradiação, as reações deixam de ser realizadas com o auxílio de microscópios eletrônicos e passam a ser aplicadas diretamente nos diversos campos da investigação científica, tais como: catálise, fotocatálise, sensores, agentes antimicrobianos, materiais magnéticos, antitumorais, entre outros. O objetivo central deste projeto é o desenvolvimento e a fabricação de um novo sistema de irradiação por feixe de elétrons com a intenção de obter/modificar, ou induzir novas propriedades mecânicas, químicas e de processabilidade aos materiais semicondutores. Como resultado desta plataforma de irradiação, pretende-se a otimização do material final de interesse para aplicações científicas e tecnológicas. (AU)

Publicações científicas

(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)

DE CAMPOS DA COSTA, JOAO PAULO; TEODORO, VINICIUS; ASSIS, MARCELO; BETTINI, JEFFERSON; ANDRES, JUAN; PEREIRA DO CARMO, JOAO PAULO; LONGO, ELSON. A scalable electron beam irradiation platform applied for allotropic carbon transformation. Carbon, v. 174, p. 567-580, APR 15 2021. (19/18656-6, 13/07296-2)

DE CAMPOS DA COSTA, JOAO PAULO; ASSIS, MARCELO; TEODORO, VINICIUS; RODRIGUES, ANDRE; DE FOGGI, CAMILA CRISTINA; SAN-MIGUEL, MIGUEL ANGEL; PEREIRA DO CARMO, JOAO PAULO; ANDRES, JUAN; LONGO, ELSON. Electron beam irradiation for the formation of thick Ag film on Ag3PO4. RSC ADVANCES, v. 10, n. 37, p. 21745-21753, JUN 9 2020. (19/18656-6, 13/07296-2, 16/23891-6)