| Processo: | 19/18656-6 |
| Modalidade de apoio: | Bolsas no Brasil - Doutorado |
| Data de Início da vigência: | 01 de novembro de 2020 |
| Data de Término da vigência: | 07 de março de 2022 |
| Área de conhecimento: | Engenharias - Engenharia Elétrica - Medidas Elétricas, Magnéticas e Eletrônicas, Instrumentação |
| Pesquisador responsável: | João Paulo Pereira Do Carmo |
| Beneficiário: | João Paulo de Campos da Costa |
| Instituição Sede: | Escola de Engenharia de São Carlos (EESC). Universidade de São Paulo (USP). São Carlos , SP, Brasil |
| Vinculado ao auxílio: | 13/07296-2 - CDMF - Centro de Desenvolvimento de Materiais Funcionais, AP.CEPID |
| Assunto(s): | Irradiação Tecnologia de feixe de elétrons Semicondutores Propriedades mecânicas Propriedades químicas |
| Palavra(s)-Chave do Pesquisador: | Automação | feixe de elétrons | instrumentação | irradiação | plasma | semicondutores | Instrumentação |
Resumo Nos últimos anos, os avanços e desenvolvimentos na área de tecnologia sucederam em um aumento significativo na demanda por novos materiais cujas propriedades e funções podem ser manipuladas mediante aplicação controlada de luz ou elétrons. Em particular, as interações por feixe de elétrons através da microscopia eletrônica de transmissão com a matéria têm sido extensivamente utilizadas não apenas como plataformas de caracterização de morfologia, estrutura e transformação química, mas também como uma técnica para o processamento e fabricação de novos materiais. No entanto, ainda é um desafio na área de processamento de materiais, tornar a produção escalável e viável com custo-benefício e fácil procedimento de fabricação. Por este motivo, a elaboração e desenvolvimento de um novo equipamento de irradiação por feixe de elétrons passa a agregar um diferencial para a produção e modificação de materiais. Nesta nova plataforma de irradiação, as reações deixam de ser realizadas com o auxílio de microscópios eletrônicos e passam a ser aplicadas diretamente nos diversos campos da investigação científica, tais como: catálise, fotocatálise, sensores, agentes antimicrobianos, materiais magnéticos, antitumorais, entre outros. O objetivo central deste projeto é o desenvolvimento e a fabricação de um novo sistema de irradiação por feixe de elétrons com a intenção de obter/modificar, ou induzir novas propriedades mecânicas, químicas e de processabilidade aos materiais semicondutores. Como resultado desta plataforma de irradiação, pretende-se a otimização do material final de interesse para aplicações científicas e tecnológicas. (AU) | |
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