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Desenvolvimento de sistema de irradiação por feixe de elétrons e sua aplicação na modificação de materiais semicondutores e não-metálicos

Texto completo
Autor(es):
João Paulo de Campos da Costa
Número total de Autores: 1
Tipo de documento: Tese de Doutorado
Imprenta: São Carlos.
Instituição: Universidade de São Paulo (USP). Escola de Engenharia de São Carlos (EESC/SBD)
Data de defesa:
Membros da banca:
Emiliano Rezende Martins; Marco Roberto Cavallari; Adenilson José Chiquito; Paulo Mateus Mendes; Antonio Carlos Seabra
Orientador: João Paulo Pereira do Carmo; Elson Longo da Silva
Resumo

Nos últimos anos, os avanços e desenvolvimentos na área de tecnologia, resultaram em um aumento significativo na demanda por novos materiais cujas propriedades e funções podem ser manipuladas mediante aplicação controlada de luz ou elétrons. Em particular, as interações por feixe de elétrons através da microscopia eletrônica de transmissão com a matéria têm sido extensivamente utilizadas não apenas como plataformas de caracterização de morfologia, estrutura e transformação química, mas também como uma técnica para o processamento e fabricação de novos materiais. No entanto, na área de desenvolvimento e processamento de materiais, ainda há muitos desafios como, por exemplo, tornar a produção escalável e viável com custo-benefício e fácil procedimento de fabricação. Por esse motivo a elaboração e desenvolvimento de um novo equipamento de irradiação por feixe de elétrons passa ser um diferencial para a produção e modificação de materiais. Com isso, as reações poderiam deixar de ser realizadas usando apenas o feixe de elétrons do microscópio eletrônico e ampliar suas aplicações a diversos campos da pesquisa científica como a catálise, fotocatálise, sensores, agentes antimicrobianos, materiais magnéticos, antitumorais, entre outros. Desta forma, caracteriza-se como objetivo central deste projeto o desenvolvimento e a fabricação de um sistema de irradiação por feixe de elétrons com a intenção de obter/modificar, ou induzir novas propriedades mecânicas, físicas e/ou químicas aos materiais semicondutores e não-metálicos. Os resultados obtidos demonstram a relevância e contribuição do equipamento desenvolvido, que passa a agregar um alto valor comercial e tecnológico ao processamento de materiais. Além disso, o equipamento oferece fácil operação e controle dos parâmetros do processo de irradiação, alta precisão, reprodutibilidade e a capacidade de produzir novos materiais e estruturas que não podem ser obtidas pelo métodos convencionais. (AU)

Processo FAPESP: 19/18656-6 - Desenvolvimento de sistema de irradiação por feixe de elétrons e sua aplicação na modificação de materiais semicondutores
Beneficiário:João Paulo de Campos da Costa
Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Doutorado