| Texto completo | |
| Autor(es): |
Scopel‚ WL
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Fantini‚ MCA
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Alayo‚ MI
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Pereyra‚ I.
Número total de Autores: 4
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| Tipo de documento: | Artigo Científico |
| Fonte: | Thin Solid Films; v. 425, n. 1, p. 275-281, 2003. |
| Processo FAPESP: | 98/09806-6 - Propriedades eletrônicas e estruturais de óxido e oxi-nitreto de silício amorfo hidrogenado |
| Beneficiário: | Wanderlã Luis Scopel |
| Modalidade de apoio: | Bolsas no Brasil - Doutorado |
| Processo FAPESP: | 01/06516-1 - Desenvolvimento de dispositivos para optica integrada utilizando peliculas dieletricas depositadas por pecvd. |
| Beneficiário: | Marco Isaías Alayo Chávez |
| Modalidade de apoio: | Bolsas no Brasil - Pós-Doutorado |