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(Referência obtida automaticamente do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Numerical simulation of HFCVD process used for diamond growth

Texto completo
Autor(es):
Divani C. Barbosa [1] ; Hélcio F. V. Nova [2] ; Mauricio R. Baldan [3]
Número total de Autores: 3
Afiliação do(s) autor(es):
[1] Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais
[2] Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais
[3] Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais
Número total de Afiliações: 3
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: Brazilian Journal of Physics; v. 36, p. 313-316, 2006-06-00.
Resumo

Hot-filament chemical vapour deposition (HFCVD) is a common method employed for diamond deposition. Typically in this method a dilute mixture of carbon containing gas such as methane in hydrogen is thermally activated at sub atmospheric pressures by a hot filament. Due to the filament-substrate proximity, large temperature variation across the substrate is possible. In this work we investigate the role of fluid flow and heat transfer from the filament to substrate in determining the quality of diamond growth. The commercial software CFX was used to calculate velocity field, temperature distribution and fluid flow. A vortex was identified on the substrate. (AU)

Processo FAPESP: 02/12578-2 - Modelo computacional para escoamentos gasosos com transferência de calor, em malhas bidimensionais, para um reator CVD
Beneficiário:Divani Barbosa Gavinier
Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Mestrado