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(Referência obtida automaticamente do Web of Science, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Structural, surface, and thermomechanical properties of intrinsic and argon implanted tetrahedral amorphous carbon

Texto completo
Autor(es):
Motta, Edison F. [1] ; Viana, Gustavo A. [1] ; Silva, Douglas S. [1] ; Cortes, Andresa D. S. [1] ; Freire, Jr., Fernando L. [2] ; Marques, Francisco C. [1]
Número total de Autores: 6
Afiliação do(s) autor(es):
[1] Univ Estadual Campinas, UNICAMP, Inst Fis Gleb Wataghin, BR-13083859 Campinas, SP - Brazil
[2] Pontificia Univ Catolica Rio de Janeiro, Dept Fis, BR-22453970 Rio De Janeiro - Brazil
Número total de Afiliações: 2
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A; v. 31, n. 2 MAR 2013.
Citações Web of Science: 6
Resumo

The structural, surface, and thermomechanical properties of intrinsic and argon incorporated tetrahedral amorphous carbon films deposited using the filtered cathodic vacuum arc process are reported. Argon atoms were simultaneously incorporated during the deposition of the films using an argon ion gun in the energy range of 0-180 eV. Contact angle measurements revealed that all of the deposited films are hydrophobic, regardless of the substrate bias voltage that was applied during the depositions. Thermal desorption spectroscopy measurements revealed that high argon bombarding energy favors films that are structurally more compact and thermally more stable. An investigation unbinding the mechanism of argon effusion and intrinsic stress relief is presented. (C) 2013 American Vacuum Society. {[}http://dx.doi.org/10.1116/1.4774326] (AU)

Processo FAPESP: 10/51246-1 - Desenvolvimento e estudo de matrizes amorfas bio/hemocompatíveis e bactericidas, incorporadas de 124Xe, depositadas por processos livre de bombeamento de vácuo, com potencial aplicação na área de radiofármacos (braquiterapia) e outras áreas biomédicas
Beneficiário:Gustavo Alexandre Viana
Linha de fomento: Bolsas no Brasil - Pós-Doutorado
Processo FAPESP: 05/53926-1 - Pesquisa e desenvolvimento de novos materiais de interesse em nanotecnologia: aplicações na indústria (micro-) eletrônica e metal-mecânica
Beneficiário:Fernando Alvarez
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Temático