Taxa de crescimento de filmes de diamante CVD em superfícies de molibdênio

Autor(es)

Oswaldo Kazushi Fujiy ; Vladimir Jesus Trava-Airoldi ^[2] ; Evaldo José Corat ^[3] ; Marcelo Juni Ferreira ^[4] ; Amaurí Amorim ^[5] ; João Roberto Moro ^[6]

• Tipo de documento: Artigo Científico
• Fonte: Rem: Revista Escola de Minas; v. 60, n. 2, p. 227-231, 2007-06-00.

Resumo

O preparo dos substratos, para o crescimento de filmes de diamante CVD, é de fundamental importância por diversos fatores. Um novo método de preparação dos substratos de molibdênio, o jateamento por óxido de alumínio, é apresentado e comparado com os métodos tradicionais de preparo. As amostras de diamante CVD obtidas foram analisadas por espectroscopia de espalhamento RAMAN e por microscopia eletrônica de varredura (MEV). Obtiveram-se filmes de diamante CVD de boa qualidade e uniformidade e o novo processo proposto de tratamento do substrato de molibdênio permitiu maior taxa de crescimento que os métodos tradicionais. (AU)

• Processo FAPESP: 03/08930-5 - Crescimento de diamante-CVD em grandes áreas em reator assistido por filamento quente
• Beneficiário: João Roberto Moro
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Regular