Otimização de parâmetros estruturais, dielétricos e ferroelétricos de filmes finos de PZT

Autor(es)

E. B. Araújo ^[1] ; J. A. Eiras ^[2]

Afiliação do(s) autor(es)

^[1] Universidade Federal de São Carlos. Departamento de Física. Grupo de Cerâmicas Ferroelétricas

^[2] Universidade Federal de São Carlos. Departamento de Física. Grupo de Cerâmicas Ferroelétricas

• Tipo de documento: Artigo Científico
• Fonte: Cerâmica; v. 47, n. 301, p. 9-12, 2001-03-00.

Resumo

Este trabalho faz uma síntese de resultados obtidos para filmes finos de PZT processados por diferentes vias com objetivo de otimizar parâmetros estruturais, dielétricos e ferroelétricos. Filmes foram preparados em fornos convencionais e pelo método de tratamento térmico rápido (TTR). Os resultados foram comparados e mostraram que os filmes cristalizados usando TTR apresentaram uma melhor cristalização, comparado com os filmes cristalizados em forno convencional. Em conseqüência, melhores parâmetros dielétricos e ferroelétricos também foram obtidos, chegando a duplicar o valor da polarização remanescente (Pr) e aumentar significativamente a constante dielétrica (épsilon) dos filmes. (AU)

• Processo FAPESP: 99/02485-2 - Síntese, deposição e caracterização dielétrica e ferroelétrica de filmes finos
• Beneficiário: Eudes Borges de Araújo
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Pós-Doutorado