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Equipamento multiusuário concedido no processo 2012/50259-8: equipamento de deposição de camadas atômicas

Resumo

Este equipamento permite a fabricação de dispositivos eletro-ópticos utilizando técnica de deposição de filmes finos de espessura atômica. Com ele será possível depositar camadas dielétricas da ordem de alguns nanômetros em estruturas capacitivas baseadas em materiais bidimensionais. (AU)

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