Construção e otimização de um sistema versátil para deposição de filmes finos utilizando plasma

• Processo: 97/06327-7
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Regular
• Data de Início da vigência: 01 de janeiro de 1998
• Data de Término da vigência: 30 de junho de 2000
• Área do conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
• Pesquisador responsável: Maria Cecília Barbosa da Silveira Salvadori
• Beneficiário: Maria Cecília Barbosa da Silveira Salvadori
• Instituição Sede: Instituto de Física (IF). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
• Assunto(s): Filmes finos Deposição de filmes finos Deposiçăo por plasma Implantação iônica
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Membrana | Plasma

Resumo

O equipamento a ser otimizado e construído neste projeto e um "Metal Plasma Immersion Ion Implantation and Deposition". Este equipamento inclui a possibilidade de deposição de filmes finos de alguns óxidos, nitretos, ligas metálicas, carbetos e especialmente diamondlik'e livre de hidrogênio, além de metais em geral. Esta técnica ainda inclui a possibilidade de implantação iônica, visto que e utilizado um bias pulsado no porta objeto. Ainda como resultado deste trabalho, devera ser desenvolvido e produzido experimentalmente um circuito sobre membranas de diamante com objetivo de medir temperatura de gases, com curto tempo de resposta. Para tanto, serão depositadas multicamadas de filmes através do equipamento aqui proposto. (AU)