Filmes finos preparados por pecvd: propriedades e interacoes com plasmas reativos.

• Processo: 98/10979-2
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Regular
• Data de Início da vigência: 01 de novembro de 1998
• Data de Término da vigência: 31 de outubro de 2000
• Área do conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física dos Fluídos, Física de Plasmas e Descargas Elétricas
• Pesquisador responsável: Mário Antonio Bica de Moraes
• Beneficiário: Mário Antonio Bica de Moraes
• Instituição Sede: Instituto de Física Gleb Wataghin (IFGW). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
• Assunto(s): Propriedades ópticas Nitreto de carbono Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD) Dureza
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Dureza | Filmes De Polimero | Irradiacao Ionica | Nitreto De Carbono | Pecvd | Propriedades Opticas

Resumo

A proposta consta de três tópicos relacionados com filmes finos depositados a plasma: (i) interações plasma-superfície; (ii) modificações de filmes por irradiação iônica; (iii) filmes de nitreto de carbono. Os tópicos (i) e (ii) estão relacionados com filmes de polímeros orgânicos. No primeiro propõe-se o estudo da emissão de espécies químicas da superfície do filme induzida pela descarga e dos mecanismos envolvidos no processo. O segundo consta da investigação das mudanças produzidas por irradiação com íons de alta energia (50 keV - 1 MeV) na estrutura e nas propriedades físicas dos filmes. No terceiro tópico pretende-se estudar a síntese de filmes de nitreto de carbono e as suas propriedades estruturais, mecânicas e ópticas em função dos parâmetros do processo de deposição. (AU)