Método para induzir, controlar e aumentar a criação de centros de defeitos associados a fotosensitividade e geração do segundo harmônico em preformas de SiO2:GeO2 fabricadas pela técnica de deposição axial em fase vapor (VAD)

• Processo: 04/03151-0
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Programa de Apoio à Propriedade Intelectual (PAPI/Nuplitec)
• Data de Início da vigência: 01 de julho de 2004
• Data de Término da vigência: 30 de junho de 2006
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos
• Pesquisador responsável: Raul Fernando Cuevas Rojas
• Beneficiário: Raul Fernando Cuevas Rojas
• Instituição Sede: Faculdade de Engenharia Mecânica (FEM). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
• Vinculado à bolsa: 00/15035-4 - Estudo da formação de defeitos relacionados com a não-linearidade de segunda ordem em preformas vítreas de SiO2:GeO2 fabricadas pela técnica de deposição em fase de vapor - VAD, BP.PD
• Assunto(s): Deposição axial na fase vapor Óptica Sílica vítrea Germânio Patentes
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Centro De Defeitos | Fotosensitividade | Optica Linear | Processo Vad | Silica Gemania

Resumo

A presente invenção está relacionada com o desenvolvimento de novo processo de preparação de vidros de SiO2:GeO2 (sílica - germânia) pela técnica de deposição axial em fase vapor (VAD), para intensificar a resposta não-linear do material. O processo é baseado no controle dos centros de defeitos que são associados às propriedades eletro-ópticas, tais como a fotosensitividade e a geração do segundo harmônico, através dos parâmetros do processo de preparação de preformas vítreas de SiO2:GeO2. Desenvolveram-se duas fases do processo para induzir, controlar e aumentar a formação destes defeitos e com isto obter um material óptico baseado no vidro SiO2:GeO2 no qual seu comportamento não linear pode ser controlado a partir do conteúdo dos centros de defeitos introduzidos no vidro através dos parâmetros usados durante a preparação do material, reduzindo-se ao mínimo o número de passos no processo de síntese do vidro SiO2:GeO2 com alto desempenho na geração de centros de defeitos responsáveis pelas propriedades ópticas não-lineares de segunda ordem. (AU)

Patente(s) depositada(s) como resultado deste projeto de pesquisa