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Microdispositivos de emissão de campo a vácuo

Resumo

O objetivo deste projeto é o desenvolvimento dos processos de fabricação e o estudo do comportamento físico de microdispositivos de emissão de campo a vácuo. Dentre os microdispositivos que pretendemos fabricar estão os "arrays" de ponteiras de emissão de campo, microdiodos e microtriodos. O projeto pode ser dividido em três partes: 1) estudo e desenvolvimento dos processos de corrosão (úmida e seca) do silício para a fabricação de ponteiras de emissão de elétrons. As ponteiras fabricadas no silício serão utilizadas como ponteiras de emissão (parte ativa do dispositivo) ou também como substrato para a fabricação de ponteiras de emissão com outros materiais (W, Ta, Pt, carbono amorfo); 2) desenvolvimento dos processos de fabricação e caracterização elétrica de microdiodos à vácuo; 3) desenvolvimento dos processos de fabricação e caracterização elétrica de microtriodos à vácuo. O objetivo dos itens 2 e 3, é obter dispositivos que possam operar com baixa tensão de polarização, alta densidade de corrente de emissão, alta frequência de corte, baixo ruído, longo tempo de vida e estabilidade de emissão. (AU)

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