The influence of starving plasma regime on carbon content and bonds in a-si1-xcx:h thin films.

• Processo: 98/13668-8
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Publicações científicas - Artigo
• Data de Início da vigência: 01 de dezembro de 1998
• Data de Término da vigência: 31 de março de 1999
• Área do conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
• Pesquisador responsável: Marcia Carvalho de Abreu Fantini
• Beneficiário: Marcia Carvalho de Abreu Fantini
• Instituição Sede: Instituto de Física (IF). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
• Assunto(s): Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD) Composição química Espectroscopia de infravermelho com transformada de Fourier
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Amorphous Silicon Carbide | Chemical Composition | Frs | Ftir | Pecvd | Rbs