Filmes de nitretoi de silicio depositados por um sistema caseiro de plasma remoto de baixa temperatura em subatratos de gaas para sistemas mis.

• Processo: 00/08220-0
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Reunião - Brasil
• Data de Início da vigência: 07 de agosto de 2000
• Data de Término da vigência: 10 de agosto de 2000
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
• Pesquisador responsável: Luiz Eugenio Monteiro de Barros Junior
• Beneficiário: Luiz Eugenio Monteiro de Barros Junior
• Instituição Sede: Pessoa Física
• Assunto(s): Arsenieto de gálio Diamantes CVD
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Cvd | Dispositivos Mis | Gaas | Misfet | Plasma Remoto