Leis de escala e propriedades de transporte em filmes finos depositados por sputtering.

• Processo: 98/00501-8
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Doutorado
• Data de Início da vigência: 01 de agosto de 1998
• Data de Término da vigência: 28 de fevereiro de 2002
• Área de conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Química - Físico-química
• Pesquisador responsável: Annette Gorenstein
• Beneficiário: Tersio Guilherme de Souza Cruz
• Instituição Sede: Instituto de Física Gleb Wataghin (IFGW). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
• Assunto(s): Fractais Filmes finos Propriedades de transporte
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Filmes Finos | Fractais | Intercalacao | Propriedades De Transporte

Resumo

Pretenderá estudar a correlação entre morfologia e propriedades de transporte iônico em filmes finos com aplicações em dispositivos de intercalação. E objetivo analisar a dinâmica de deposição de filmes finos pela técnica de sputtering, obtendo a dimensão fractal, a rugosidade da superfície e estudando a lei de escalas em cada condição experimental, além da análise, por técnicas eletroquímicas da dimensão fractal dos filmes. Os materiais propostos são filmes finos de Mo03 e de carbono. A caracterização da auto-similaridade e das leis de escala será realizada utilizando microscopia de força atômica. A intercalação será realizada utilizando-se as técnicas de cronoamperometria, voltametria cíclica e impedância eletroquímica. A microestrutura das amostras será analisada por difração de Raios-X convencional e por EXAFS. A composição ser analisada por RBS e as propriedades de transporte eletrônico por espectroscopia de impedância. (AU)

Publicações científicas

(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)

SOUZA CRUZ‚ T.G.; KLEINKE‚ MU; GORENSTEIN‚ A.. Evidence of local and global scaling regimes in thin films deposited by sputtering: An atomic force microscopy and electrochemical study. Applied Physics Letters, v. 81, n. 26, p. 4922-4924, 2002. (98/14769-2, 98/00501-8)

Publicações acadêmicas

(Referências obtidas automaticamente das Instituições de Ensino e Pesquisa do Estado de São Paulo)

CRUZ, Tersio Guilherme de Souza. Leis de escala e dimensão fractal em filmes finos: microscopia de força atômica e técnicas eletroquímicas. 2002. Tese de Doutorado - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Instituto de Física Gleb Wataghin Campinas, SP.