Produção de filmes de Ag-DLC obtidos por pulverização catódica assistida a plasma de alta potência - HiPIMS

• Processo: 10/10351-7
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Doutorado
• Data de Início da vigência: 01 de novembro de 2010
• Data de Término da vigência: 31 de agosto de 2013
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos
• Pesquisador responsável: Lúcia Vieira
• Beneficiário: Sara Fernanda Fissmer
• Instituição Sede: Divisão de Ciências Fundamentais (IEF). Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA). Ministério da Defesa (Brasil). São José dos Campos , SP, Brasil
• Assunto(s): Atrito Desgaste (tribologia) Carbono amorfo Nanopartículas metálicas Prata
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Aderência | Atrito | Carbono amorfo | desgaste | Nano partículas de Prata | Filmes Finos

Resumo

Propõe-se neste trabalho o estudo da inserção de partículas de prata em filmes de DLC através de técnicas assistidas por plasma, pesquisa essa que já vem sendo desenvolvida no Laboratório de Plasmas e Processos do ITA com objetivo de estudar a redução da taxa de corrosão sofrida pelos filmes de DLC na presença do oxigênio atômico e também comparar as propriedades tribológicas, como o coeficiente de atrito e o desgaste dos filmes de DLC com e sem nanopartículas de prata. Além disso, estudos das propriedades mecânicas, como aderência, serão feitos, visto que filmes de DLC depositados sobre substratos metálicos apresentam baixa adesão nos filmes, causado pela alta tensão residual - interna e externa - destes revestimentos, visto que nanopartículas em sua estrutura podem reduzir o stress do filme. Com o objetivo de se obter filmes melhor aderidos a substratos metálicos, pretende-se produzir os filmes por deposição física na fase de vapor (do inglês Physical Vapor Deposition - PVD) por plasma pulsado em altas potências (High Power Impulse Magnetron Sputtering - HiPIMS). Esta é uma técnica recentemente desenvolvida para deposição de filmes finos via magnetron sputtering que se utiliza de plasmas altamente ionizados. Com isso será possível estabelecer condições únicas para o crescimento de filmes com propriedades superiores aos obtidos por sputtering convencional, de maneira que apresentam alto nível de compactação, são livres de defeitos, possuem alta aderência a substratos, entre outras. A formação e distribuição das nanopartículas de prata sobre o filme de DLC serão estudadas em relação à nucleação, coalescência e crescimento dos grãos. (AU)