Estudo e otimização do processo de liberação de RF MEMS fabricados em tecnologia CMOS

• Processo: 14/18170-2
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
• Data de Início da vigência: 01 de novembro de 2014
• Data de Término da vigência: 31 de julho de 2015
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Circuitos Elétricos, Magnéticos e Eletrônicos
• Pesquisador responsável: Gustavo Pamplona Rehder
• Beneficiário: Rafael Martins Manzano Silva
• Instituição Sede: Escola Politécnica (EP). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
• Vinculado ao auxílio: 11/18167-3 - RF MEMS em ondas milimétricas utilizando processo CMOS comercial, AP.JP
• Assunto(s): Microeletrônica Radiofrequência CMOS
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: HF Vapor | liberação | Rf Mems | Sistema de corrosão | Microeletrônica

Resumo

O presente trabalho pretende estudar e otimizar o processo liberação dos RF MEMS fabricados com tecnologia CMOS comercial em desenvolvimento no LME. Pretende-se estudar os mecanismos de corrosão por RIE e otimizar este processo. A corrosão por HF vapor também será estudada visando a melhorar a reprodutibilidade da corrosão e eliminar os resíduos que aparecem após este processo. Um processo alternativo que utiliza corrosão úmida e secagem supercrítica também será testado.