Estudo da deposição com plasmas de alta densidade de filmes de carbono tipo diamante (DLC Diamond Like Carbon)

• Processo: 99/01387-7
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
• Data de Início da vigência: 01 de abril de 1999
• Data de Término da vigência: 31 de março de 2001
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
• Pesquisador responsável: Ronaldo Domingues Mansano
• Beneficiário: Paula Maria Nogueira
• Instituição Sede: Escola Politécnica (EP). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
• Assunto(s): Microeletrônica Dielétricos Deposiçăo por plasma Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD)
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Deposicao Por Plasma | Dieletricos | Microeletronica

Resumo

Neste trabalho será caracterizado ura sistema de deposição de filmes dielétricos por plasmas de alta densidade, esta caracterização inclui a verificação das limitações do sistema de deposição em função dos parâmetros de processo (pressão, vazão dos gases). Além disso também serão caracterizados os filmes depositados, em especial os filmes de carbono tipo diamante (DLC), quanto a sua composição, química, porcentagem de ligações tipo diamante e grafíticas, e também a possibilidade de podermos fazer algumas aplicações elétricas, por exemplo em capacitores. (AU)