Efeito dos métodos de fotopolimerização sobre a resistência ao cisalhamento de compósitos odontológicos

• Processo: 98/14949-0
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
• Data de Início da vigência: 01 de abril de 1999
• Data de Término da vigência: 31 de dezembro de 1999
• Área de conhecimento: Ciências da Saúde - Odontologia - Materiais Odontológicos
• Pesquisador responsável: Simonides Consani
• Beneficiário: Flavia Guimaraes Dutra Patrao
• Instituição Sede: Faculdade de Odontologia de Piracicaba (FOP). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Piracicaba , SP, Brasil
• Assunto(s): Adesivos dentinários Cisalhamento Resistência ao cisalhamento Polimerização Fotopolimerização
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Cisalhamento | Compositos Odontologicos | Polimerizacao | Sistema Adesivo

Resumo

A proposta deste estudo será verificar o efeito do método de polimerização por luz contínua, dupla intensidade de luz e luz intermitente sobre a resistência ao cisalhamento da interface dentina-compósito. Serão utilizados 90 dentes humanos divididos em 3 grupos, de acordo com o método de polimerização. Cada grupo será dividido em 3 subgrupos de acordo com o compósito utilizado, ou seja, Z-100 (3M), Solitaire (Kulzer) e Natural Flow (DFL). Os dentes serão incluídos em resina acrílica e desgastados até se obter uma superfície plana de dentina. Em seguida, o sistema adesivo SBMU (3M) será aplicado e o compósito aplicado em camadas, através de uma matriz de aço inox (4 mm de diâmetro e 5 mm de altura), e polimerizadas de acordo com cada método. Os corpos-de-prova serão armazenados a 37°C e 100% de U.R. por 24 horas, termociclados 500 vezes e submetidos ao ensaio de cisalhamento em uma máquina Instron com velocidade de 0,5 mm/min. Os resultados serão submetidos à análise estatística. (AU)