Desenvolvimento de dispositivos para optica integrada utilizando peliculas dieletricas depositadas por pecvd.

• Processo: 01/06516-1
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Pós-Doutorado
• Data de Início da vigência: 01 de dezembro de 2001
• Data de Término da vigência: 30 de novembro de 2004
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
• Pesquisador responsável: Ines Pereyra
• Beneficiário: Marco Isaías Alayo Chávez
• Instituição Sede: Escola Politécnica (EP). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
• Vinculado ao auxílio: 00/10027-3 - Produção, caracterização e aplicações de ligas semicondutoras e isolantes, AP.TEM
• Assunto(s): Óptica integrada Guias de onda
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Guias De Onda | Optica Integrada | Pecvd'Filmes Dielerticos

Resumo

Este projeto de pesquisa tem por objetivo desenvolver estudos na área de óptica integrada através do desenvolvimento de dispositivos ópticos baseados em películas dielétricas depositadas pela técnica de deposição química a vapor assistida por plasma (PECVD) em baixas temperaturas. Pretendemos especificamente otimizar as condições de deposição para a obtenção de materiais dielétricos, como SiO2, SiOxNy e Si3N4, com propriedades adequadas para sua utilização em dispositivos ópticos bem como estabelecer os processos que permitam o desenvolvimento e a caracterização desses dispositivos, particularmente guias de onda. Esta proposta vai de encontro ao desejo de consolidar a linha de pesquisa em optoeletrônica do Grupo de Novos Materiais e Dispositivos (GNMD) da Escola Politécnica da USP (onde será realizado este projeto), objetivo este contemplado no projeto Temático FAPESP (Processo Nº 00/10027-3) ao qual este pós-doutorado está vinculado. (AU)

Publicações científicas

(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)

OLIVEIRA‚ RAR; RIBEIRO‚ M.; PEREYRA‚ I.; ALAYO‚ MI. Silicon clusters in PECVD silicon-rich SiO< sub> x N< sub> y. MATERIALS CHARACTERIZATION, v. 50, n. 2, p. 161-166, 2003. (00/10027-3, 01/06516-1)

SCOPEL‚ WL; FANTINI‚ MCA; ALAYO‚ MI; PEREYRA‚ I.. Structural investigation of Si-rich amorphous silicon oxynitride films. Thin Solid Films, v. 425, n. 1, p. 275-281, 2003. (98/09806-6, 01/06516-1)