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Deposicao vpd "vapour-phase deposition" de silicia vitrea para fibras opticas.

Processo: 96/05427-5
Modalidade de apoio:Bolsas no Brasil - Pós-Doutorado
Data de Início da vigência: 01 de setembro de 1996
Data de Término da vigência: 31 de agosto de 1998
Área de conhecimento:Engenharias - Engenharia Mecânica - Processos de Fabricação
Pesquisador responsável:Delson Torikai
Beneficiário:Delson Torikai
Instituição Sede: Faculdade de Engenharia Mecânica (FEM). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
Assunto(s):Fibra óptica
Palavra(s)-Chave do Pesquisador:Alta Silica | Fibra Optica | Silica Vitrica

Resumo

Desenvolver conhecimento básico e implantação da tecnologia de deposição de sílica vítrea pelo processo VAD para obtenção de preforma de sílica para fibras ópticas. Envolve a montagem e instalação de um forno de deposição VAD e consolidação da preforma transparente; estudos dos parâmetros operacionais do forno para melhor eficiência de deposição e obtenção do perfil de índice de refração; testes e desenvolvimento de maçaricos para deposição VAD; produção de preformas de sílica de escala laboratorial com sua caracterização estrutural (ditração e espalhamento de raios-x), óptica (atenuação e perfil do índice de refração), química (concentração de impurezas metálicas e dopagens por AAS e ICP), e mecânica (resistência ao puxamento em fibra óptica). (AU)

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