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Estudo de filmes de polianilina e poli(p-fenileno vinilideno) como elementos ativos de dispositivos eletronicos e optoeletronicos.

Processo: 00/06032-1
Modalidade de apoio:Bolsas no Brasil - Mestrado
Data de Início da vigência: 01 de agosto de 2000
Data de Término da vigência: 28 de fevereiro de 2002
Área de conhecimento:Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
Pesquisador responsável:Ely Antonio Tadeu Dirani
Beneficiário:Alexandre Mantovani Nardes
Instituição Sede: Escola Politécnica (EP). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
Assunto(s):Baixa temperatura   Condutividade   Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD)
Palavra(s)-Chave do Pesquisador:Baixa Temperatura | Condutividade | Hwcvd | Pecvd

Resumo

Películas finas de ligas de silício microcristalino hidrogenado depositados a baixa temperatura tem obtido uma atenção especial devido ao grande potencial para aplicações de baixo custo, tais como painéis de células solares e transistores de filmes finos. A técnica PECVD com a diluição de hidrogênio é comumente usada para preparar tais películas. Entretanto, uma outra técnica de deposição, denominada HWCVD, têm melhorado a microestrutura dos filmes depositados. Neste trabalho, serão depositadas películas de silício microcristalino hidrogenado em diferentes substratos, notadamente polímeros, com a finalidade de se reduzir o custo do processo e melhorar as características estruturais e elétricas do filme. Para a otimização das características estruturais serão utilizadas técnicas de espectroscopia Ramam, espectroscopia no infravermelho, elipsometria, perfilometria e caracterização de superfícies através de microscopia de força atômica (AFM). As características elétricas, um aspecto que merece maior atenção, serão analisadas por medida de efeito Hall, condutividade no escuro e espectroscopia de impedância. (AU)

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Publicações acadêmicas
(Referências obtidas automaticamente das Instituições de Ensino e Pesquisa do Estado de São Paulo)
NARDES, Alexandre Mantovani. Propriedades elétricas de películas finas de ligas de silício microcristalino hidrogenadas depositadas a baixas temperaturas.. 2002. Dissertação de Mestrado - Universidade de São Paulo (USP). Escola Politécnica (EP/BC) São Paulo.