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Crescimento e caracterização de heteroestruturas tensionadas de InxGa1-x-As/GaAs

Texto completo
Autor(es):
Artemis Marti Ceschin
Número total de Autores: 1
Tipo de documento: Tese de Doutorado
Imprenta: São Carlos.
Instituição: Universidade de São Paulo (USP). Instituto de Física de São Carlos (IFSC/BT)
Data de defesa:
Membros da banca:
Maximo Siu Li; Andre Bohomoletz Henriques; Paulo Motisuke; Luiz Antonio de Oliveira Nunes; Suhaila Maluf Shibli
Orientador: Maximo Siu Li
Resumo

Utilizando a técnica de epitaxia por feixe molecular (MBE), crescemos heteroestruturas tensionadas de InxGa1-xAs sobre substratos de GaAs (100). A composição de In, a espessura para a transição 2D-3D e a espessura crítica (hc) foram determinadas através da análise \"in situ\" pelo RHEED. Os valores da hc e da espessura para a transição 2D- 3D foram observadas ser funções da composição do In e da temperatura do substrato. Um estudo do efeito da desorientação do substrato de GaAs (100) de alguns graus sobre as qualidades ópticas (PL) de poços quânticos simples e múltiplos de InxGa1-xAs/GaAs também foi realizado. Microscopia eletrônica por transmissão (TEM) foi utilizada para a verificação da qualidade das interfaces dos poços quânticos de InxGa1-x/GaAs. Algumas estruturas de dupla barreira (AlGaAs/GaAs/InAs/GaAs/AlGaAs) foram crescidas e caracterizadas opticamente (PL) (AU)

Processo FAPESP: 92/00032-1 - Crescimento e caracterização de heteroestruturais tensionadas de InxGal-xAs sobre GaAs
Beneficiário:Artemis Marti Ceschin
Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Doutorado