APARATO PARA REATOR A PLASMA, PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE REVESTIMENTO DE FILME DE CARBONO PELO USO DO REFERIDO APARATO E CORRESPONDENTE FILME OBTIDO

APARATO PARA REATOR A PLASMA, PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE REVESTIMENTO DE FILME DE CARBONO PELO USO DO REFERIDO APARATO E CORRESPONDENTE FILME OBTIDO. A presente invenção se refere a um reator a plasma, um processo de revestimento de filme de carbono referido aparato e correspondente filme aparato para deposição de pelo uso do obtido a partir do referido processo. O referido aparato para reator de plasma que viabiliza que o processo de deposição de revestimento de filmes de carbono a plasma ocorra apresentando distribuição ordenada e sobreposição regular, compreendendo o uso de nanopartículas ou com a ausência de nanopartículas e com carreamento de vapor de líquido por meio de diferença de pressão. O referido carreamento implica na dispensa do uso de gás de arraste e do uso de aquecimento externo para evaporação. A presente invenção pertence ao campo da química.