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EMU científico: aquisição de sistema de nanolitografia por feixe de elétrons de 100 kV para fabricação de alto rendimento de dispositivos com alta precisão

Processo: 22/11526-2
Modalidade de apoio:Auxílio à Pesquisa - Programa Infraestrutura - Científico
Data de Início da vigência: 01 de agosto de 2023
Data de Término da vigência: 31 de julho de 2030
Área do conhecimento:Interdisciplinar
Pesquisador responsável:Newton Cesario Frateschi
Beneficiário:Newton Cesario Frateschi
Instituição Sede: Centro de Componentes Semicondutores (CCS). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
Pesquisadores associados:Ben-Hur Viana Borges ; Christiano José Santiago de Matos ; Euclydes Marega Junior ; Felippe Alexandre Silva Barbosa ; Francisco Paulo Marques Rouxinol ; Gustavo Silva Wiederhecker ; Jose Alexandre Diniz ; Marcelo Martinelli ; Thiago Pedro Mayer Alegre
Assunto(s):Microfabricação  Nanoeletrônica  Optomecânica  Fotônica  Nanolitografia  Tecnologia de feixe de elétrons  Aquisição de equipamentos  Equipamentos multiusuários  Infraestrutura de pesquisa 
Palavra(s)-Chave do Pesquisador:electron beam lithography | Material Science | Microfabrication | nanoelectronics | Optomechanics | Photonics | Microfabricação

Resumo

As técnicas de nanofabricação têm desempenhado um papel fundamental na investigação de novos materiais e suas transformações em dispositivos habilitadores de novas tecnologias. No centro de todas essas tecnologias está o processo de litografia, onde um padrão desejado é transferido para um filme fino em um substrato adequado (por exemplo, silício, semicondutores do tipo III-V, niobato de lítio, etc.). Para alcançar a resolução nanométrica necessária na fabricação de trilhões de transistores em um único chip, junções Josephson em qubits supercondutores ou cristais fotônicos integrados em chips, existem duas rotas possíveis: litografia óptica usando luz ultra-violeta (DUV) ou litografia por feixe de elétrons (eBeam). Em um ambiente acadêmico ou de produção em pequena escala, a alternativa mais acessível é usar uma abordagem de escrita direta fornecida pelo sistema de litografia pode feixe de elétrons. Este tipo de ferramenta pode fornecer uma resolução espacial muito alta, permitindo a fabricação de dispositivos com estruturas abaixo de 20 nm e ainda assim cobrir uma grande área (wafers de até 8 polegadas). Essa estratégia reduz significativamente os custos e o tempo de fabricação além de adicionar a flexibilidade necessária típica de um ambiente acadêmico ou de produção em pequena escala. Baseado na experiência de uma década acumulada pelo CCSNano na operação de um eBeam de pesquisa, pretendemos nesta proposta dar um passo adiante e instalar um sistema semi-industrial de litografia por feixe de elétrons capaz de fornecer nanolitografia de alta resolução, mas com alto rendimento e escrita e em grandes áreas. Esta iniciativa irá alavancar a pesquisa no Estado de São Paulo tornando-a competitiva com instituições internacionais em vários campos, como informação quântica, fotônica integrada, spintrônica, nanoeletrônica, optomecânica, microfluídica e ciência dos materiais. (AU)

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Publicações científicas
(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)
DE OLIVEIRA, RAPHAELA; YOSHIDA, ANA B. BARBOSA; RABAHI, CESAR R.; FREITAS, RAUL; TEIXEIRA, VERONICA C.; DE MATOS, CHRISTIANO J. S.; GOBATO, YARA GALVAO; BARCELOS, INGRID D.; CADORE, ALISSON R.. Ultrathin natural biotite crystals as a dielectric layer for van der Waals heterostructure applications. Nanotechnology, v. 35, n. 50, p. 11-pg., . (15/13771-0, 19/14017-9, 22/11526-2, 14/07375-2, 22/08329-0, 22/10340-2, 22/02901-4)